作者/星空下的淀粉肠
编辑/菠菜的星空
排版/星空下的热干面
5月27日，A股 半导体板块 迎重大利好、板块活跃度大幅提升，特别是 光刻机 相关题材个股涨幅领先。半导体板块本次利好受到了国家集成电路产业投资基金三期股份有限公司成立的消息影响。经过了前两期的投资支持，有研究机构认为大基金三期投资重点将覆盖人工智能芯片、先进半导体设备（尤其是光刻机等）、 半导体材料 （光刻胶等）。
光刻技术是制造芯片的基石。目前光刻技术的实现主要靠EUV等传统光刻机。不过随着去年10月份佳能推出新型FPA-1200NZ2C 纳米压印 光刻机，可将电路图案直接印在晶圆上，号称通过纳米压印光刻（NIL）技术实现了目前最先进的半导体工艺。该消息使得纳米压印光刻成为行业的关注热点。
今天我们就来聊一聊纳米压印产业链上游的最贵耗材—— 纳米压印模板 。
一、生产流程的基础，上游材料的关键
纳米压印生产的主要流程有 模版制作 、晶圆清洗、旋涂匀胶、纳米压印、固化、脱膜、镀膜、晶圆切割、镜片贴合、镜片封边等步骤。其中模板制作作为整个生产流程的开端，其制备非常重要。因为模板上的 图形质量 决定了纳米压印能够达到的转移到聚合物上的图形质量，模板上的 分辨率 决定了聚合物上图案的分辨率。纳米压印模板所起的作用相当于光学光刻中的 掩模板 。
掩膜版，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的 高精密工具 ，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。和掩模板一样，纳米压印模板位于 产业链上游 ，是下游电子元器件制造业批量生产、下游行业生产流程的 关键模具 ，也是下游产品 精度和质量 的决定因素之一。
二、加工要求高，技术升级中
虽然纳米压印模板类似传统光刻掩模板，但其加工要求要 高于 光掩模板。原因就在于纳米压印是按的比例完全复制模板上的图案，这一点不同于传统的光学投影光刻采用的1:4倍缩式镜头。这意味着纳米压印图形化设备的精度要求已经 超过 了同技术节点的传统光罩。因此模板的加工十分关键，它 直接决定 了纳米压印工艺的 效率 、 缺陷 、 分辨率 等关键性因素。
也正因为纳米压印的1:1复刻，其压印出来的图案尺寸完全由模板上的图案决定，所以不会受到传统光刻胶技术中光源波长、光学衍射的限制和影响。与光刻设备产生的图案相比，纳米压印技术再现了 更高分辨率 和 更大均匀性 的图案。
按照模具类型的不同，纳米压印光刻可分为三种不同的技术： 硬模 、 软模 和 混合纳米 压印。其中硬模常用的材料有、、、 金刚石 等。硬模板能在聚合物材料上形成10nm分辨率的图案，尽管分辨率很高，但硬模仍存在许多与固有特性相关的问题，如 图案化区域 的 缺陷控制 等。
如果可以使用柔软而柔韧的材料（通常是 聚合物基材料 ，如PDMS、PFPE、ETFE和PET）来调解这种困境，那么既能降低成本，又能提高图案化的良率和缺陷控制。这就是软膜纳米压印光刻。
业内为了进一步提高制造分辨率，同时保留软模的所有优点，引入了结合了紫外光固化硬模和软模的混合模具。紫外光固化混合模具由透明柔性基材（通常为）和 紫外光固化树脂 组成，可涂覆在柔性基材上，固化后作为图案模具使用。
三、市场广阔，未来可期
虽然半导体纳米压印还处于研发阶段，但考虑到纳米压印模板对应传统 光掩膜 ，其市场空间广阔、未来可期。光掩膜占整个晶圆制造材料市场的， 仅次于 硅和半导体气体，是半导体产业链中的重要材料。根据SEMI2023年统计，全球半导体光掩膜市场在2022年实现了 连续第10年的增长 ，达到55亿美元。按地区划分，由于代工和内存容量的主导份额， 亚太地区 代表着最大和增长最快的光掩膜市场。
从半导体产业历史发展来看，我国一直处于 缺位状态 。随着我国技术发展的积累以及国家大基金的扶持，我国企业当前也算天时地利人和。就纳米压印模板产业而言，我国企业已经在瞄准机会准备出击。如国内领先掩膜版制造商清溢光电（688138）表示已经关注半导体纳米压印的技术发展。
期待我国企业能在纳米压印模板领域实现弯道超车！也期待纳米压印模板的发展能为相关化工原材料带来新的增长点！
注：本文不构成任何投资建议。股市有风险，入市需谨慎。没有买卖就没有伤害。
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